半導(dǎo)體芯片廢水處理工藝有哪些?
近年隨著科技的一直提高和國(guó)民需求的日益增添,我國(guó)半導(dǎo)體消費(fèi)行業(yè)得到了較快的開(kāi)展,然而隨之而來(lái)是少量的半導(dǎo)體廢水排放問(wèn)題。
(1)二級(jí)反映+一級(jí)助凝+一級(jí)積淀,體系出水氟離子濃度基礎(chǔ)到達(dá)<Zomg÷L請(qǐng)求;若增添一級(jí)積淀,即用二級(jí)反映+積淀+一級(jí)反映+積淀的兩階段積淀反映,體系出水氟離子濃度可掌握在10mg/L以下。
(2)濃氨吹脫吸出工藝-含氟廢水兩階段積淀工藝(含氟廢水與CMP研磨廢水混雜解決)一三級(jí)酸堿中和解決工藝。
(3)兩級(jí)反映池、酸堿原液間接投加,運(yùn)行出水不穩(wěn)固且藥劑消費(fèi)量很大。
(4)反沖刷過(guò)濾器,是一種應(yīng)用濾網(wǎng)間接阻攔水中的雜質(zhì),去除水體懸浮物、顆粒物,下降濁度,污染水質(zhì),增添體系污垢、菌藻、銹蝕等發(fā)生,以污染水質(zhì)及掩護(hù)體系其余裝備正常任務(wù)的裝備。經(jīng)反沖刷過(guò)濾器解決后的水質(zhì)豈但到達(dá)了國(guó)度規(guī)則的廢水排放規(guī)范,經(jīng)反沖刷過(guò)濾器解決后的水源可反復(fù)、循環(huán)應(yīng)用有效的節(jié)儉了水資源。