半導體廢水處理污染物種類多，成分復雜，通常包括多種重金屬廢水，有機廢水以及硅和氟廢水。

關于半導體廢水處理的方法：

1、HF濃廢液

此廢液至處理系統后，添加Na0H提升pH值至8~10之間，注入CaC12, Ca(OH)2 與HF反應向生成CaF2污泥，即HF+CaCl2+Ca(0H)2←CaF2+HCl+H20的反應式。去除氟離子之濃度量，而CaF2污泥產物與晶圓研磨廢液混合，且添加高分子增進其沈降性，以利CaF2污泥經脫水機擠壓過濾。污泥餅則委托代處理業者處理，另一產物HC1酸氣由處理廠廢氣洗滌后排放，污泥濾液則注入調節池。

2、一般廢水

包括HF洗滌廢水，酸/堿性廢水。經水系統樹脂塔再生廢液，廢氣洗滌廢水等進入調節池 混合均勻，稀釋后泵入調整中，添加NaOH、H2S04等酸堿中和劑，將之調整為6.0~9.0的pH值范圍后放流入園區下水道。

3、回收處理單元

有機廢液回收后將IPA溶劑、顯影液及濃硫酸廢液等分開收集，并委外處理。

濃縮液回收再利用——純水系統設備產生之濃縮液，除供應原系統反洗，再生用外，更可補充大量飛散之冷卻用水，如此不但降低排水量，亦可節省用水量。

純水供應系統回收水—目前純水供應系統可直接回收70%至純水制造系統，另將制程之洗滌水回收以供冷卻系統及衛生用水，此部份占20%，因此，純水供應系統回收水已可達90%。

堿性再生廢液—純水系統堿性再生廢液收集應用于廢水處理系統之pH值調節用，如此可減少化學藥劑之使用量。